वर्णन:

फोटोभोल्टिक स्लरीले सौर्य प्यानलको सतहमा सकारात्मक र नकारात्मक इलेक्ट्रोडको रूपमा छापिएको प्रवाहकीय स्लरीलाई बुझाउँछ।फोटोभोल्टिक स्लरी ब्याट्रीमा सिलिकन वेफरको उत्पादनमा प्रयोग हुने मुख्य सहायक सामग्री हो, ब्याट्री निर्माणको गैर-सिलिकन लागतको 30% - 40% हो।

अल्ट्रासोनिक फैलावट टेक्नोलोजीले फैलावट र मिश्रणलाई एकीकृत गर्दछ, र फोटोभोल्टिक स्लरीको कणहरूलाई माइक्रोन वा न्यानोमिटर स्तरमा परिष्कृत गर्न अल्ट्रासोनिक cavitation प्रभाव द्वारा उत्पन्न चरम अवस्थाहरू प्रयोग गर्दछ।अल्ट्रासोनिक फैलावटले कम तापक्रममा न्यानो फोटोभोल्टिक पेस्टहरू तयार गर्न सक्छ।

निर्दिष्टीकरण:

कार्य प्रभाव:

फाइदा:

यसले ब्याट्रीको आन्तरिक प्रतिरोध कम गर्न र उच्च वर्तमान निर्वहन शक्ति घनत्व सुधार गर्न सक्छ;

कम तापमान उपचार सक्रिय सामग्री को ग्राम क्षमता सुधार गर्न सक्छ;

प्रवाहकीय एजेन्ट र बाइंडर को मात्रा घटाउनुहोस्;

इलेक्ट्रोलाइट अवशोषण बढाउनुहोस्;

सेवा जीवन विस्तार गर्नुहोस्।